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ASI J200 LA激光剥蚀进样系统
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简介

美国应用光谱公司 (Applied Spectra Inc.)专注研究激光剥蚀和光谱分析技术的高技术公司。 研发人员均为美国劳伦斯伯克利国家实验室的研究人员。 公司总裁Richard Russo 博士为美国劳伦斯伯克利国家实验室的资深科学家, 从事激光剥蚀及激光光谱元素分析技术三十多年, 创造性的将激光剥蚀技术 (Laser Ablation, LA) 及激光诱导击穿光谱 (Laser Induced Breakdown Spectroscopy, LIBS)相融合, 研发了J200系列激光剥蚀进样系统及光谱分析系统。

J200 纳秒激光剥蚀进样及激光诱导击穿光谱复合系统实现了LIBS与LA-ICP-MS的同时测量,并具备多种测量功能: 可测量常量, 微量和同位素 (与ICP-MS串联);分析有机元素及轻元素; 元素三维空间分布;校正ICP-MS质谱信号。主要用于地质矿物,土壤,植物,合金,新能源材料 (例如锂电池材料), 刑侦证据等样品的剥蚀进样及化学成分分析。

J200 LA 激光剥蚀进样系统可与市面上的四级杠质谱仪, 飞行时间质谱仪和高分辨质谱仪串联使用。

J200 LA 激光剥蚀进样系统特色

高稳定Q开关, 短脉冲Nd:YAG 激光 ,可选择多波长 < 5 nsec at 213 nm ,创新的模组化设,为独立 LA, LIBS, LA - LIBS 复合的系统设计 ,因分析需求,提供三种LIBS 检测器选择 ,激光剥蚀均匀且一致性的LA系统

自动样品高度调整功能

J200激光剥蚀进样系统采用ASI**技术:剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合,解决了若样品表面凹凸不平而剥蚀不均、导致元素含量值误差大的问题;激光能量稳定阀确保了到达样品表面的激光能量均匀,使所有采样点的激光烧蚀均匀一致;3-D全自动操作台**行程可达100mmx100mmx36mm,XY行程分辨率0.2μm,Z行程分辨率0.1μm, 优于其它任何同类产品

稳定激光能量的光闸设置

高分辨双CMOS相机系统, 可用于宽视野观测样品表面特征 应用光谱公司的 Flex 样品室内置气体模组可优化气流和颗粒清洁能力,满足不同测量要求,先进的微集气管设计,可尽可能的减少排气,防止集结剥蚀颗粒,消除记忆影响。

双通道高精度质量流量控制器和电子控制阀

Axiom LA 软件系统

软件可整合控制硬件组件及ICP-MS 同pu步操作,轻松实现繁杂的激光采样与分析模式 ,强大的数据分析工具用于繁杂的 LA-ICP-MS 串联光谱分析

灵活的分析方法:全分析,夹杂物分析,斑点分析,深度分析和元素分映像

维护成本低

可扩充升级LA – LIBS 复合系统

可扩充升级飞秒 LA 系统

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